随着纳米技术和半导体微电子技术的发展，对器件和材料的尺寸要求有着更精细化的要求，同时，器件结构中的宽深比不断增加，所使用材料的厚度也追求到了以纳米为单位的数量级。在这一过程中，原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的关键技术之一，在半导体芯片、纳米技术、新能源、生物医药等领域有巨大的应用前景。过往，上述领域的镀膜技术更依赖进口。位于松山湖国际创新创业社区的东莞纳锋微电子装备有限公司（以下简称“纳锋微电子”）创始人李湘林在原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，以下简称“ALD技术”）领域经过十多年经验积累，独立带队、自主研发出技术领先的国产原子层沉积装备系统，成功填补国内领域技术空白。
李湘林本硕期间攻读物理专业，于2009年在南洋理工大学读博，期间开始接触ALD技术。ALD是一种基于表面化学反应、自限制生长的化学气相成膜技术，具有镀膜均匀、厚度精确可控等特点。在课题研究期间，他意识到ALD技术的应用场景广泛，但市面上的设备工艺却无法满足实际研究应用需求，包括各种设备的镀膜使用材料相对受限、镀膜速度缓慢等。
为推动在校实验课题的顺利开展，李湘林开始深入学习，尝试改造、设计ALD技术设备。有一回，李湘林在学校实验室参与课题研究的过程中，其导师正在使用的ALD设备出现故障。导师便让有物理专业基础的李湘林来检查维修，李湘林检查完设备后说：“设备本身不容易维修，我们自己可以做一台。”“实验有需求，师生也有需要，我们自己动手改造设备、开发工艺，以满足不同实验场景需求，这也让学校的老师们对我留下深刻印象。”李湘林表示，正是这样一个契机，让他在博士毕业后，选择继续留在学校设计ALD系统、搭建研究型ALD样机。最终，这些样机在南洋理工大学投入使用，并成功产出科研成果。2018年，在深入了解广东多地的扶持政策、创业环境后，李湘林选择了东莞松山湖，与东莞同济大学研究院签订孵化协议，在社区成立东莞纳锋微电子装备有限公司，并于同年完成研究型ALD产品开发及测试。通过自主研发，企业研发技术能最大程度压缩镀膜过程中各环节反应时间，纳锋微电子的ALD产品在保证镀膜均匀度、厚度可控度的基础上，镀膜单循环时间缩短至最短 3 秒内，速度是同行业产品的 1/10 至 1/4。
“由于缺少相关关键技术，目前ALD量产技术都被国外的设备大厂如ASMI、AMAT、TEL等垄断，国内量产型ALD设备制造企业几乎空白，进口设备相对昂贵外，在实际开展研究和应用上也有很多功能限制。”李湘林表示，企业研发的技术设备能广泛适用液态、气态、固态的镀膜原料，且具有反应源耗量小、多种沉积模式兼容等优点。
创业期间，李湘林依旧潜心技术研发，并于2018年成为湖湘青年英才入选者，2019年成为首批松山湖创新创业领军人才项目入选者，发表SCI论文50余篇，论文他引2000余次。
李湘林坦言，技术出身的自己更倾向于全身心投入研发和实验，自身并不擅长市场开拓、企业运营的工作。创业期间，东莞同济大学研究院为其创办企业提供企业注册、引进职工等服务。由于公司产品专业性高，主要应用场景为高校、研发机构及企业的实验室内，招到熟悉该专业领域的销售人才并非易事，企业也因此长时间由李湘林一人维持着“佛系”推销的状态。“企业过去的重心没放在发力开拓市场上，更多聚焦新产品的研发，由于以前读博时的导师、同学们都知道我在开发这类产品，我自己也发表过一些相关论文，客户便顺藤摸瓜联系上我，纳锋微电子就这样在没有进行大范围商业推广的情况下，用口碑赢得一个个客户的认可，逐渐成长起来。”李湘林表示，有客户开展课题研究，一次实验耗时长却始终没有进展，他便自己把研究样品带到公司进行试验，客户看到高效率产出的实验结果便主动签下订单。
随着口碑逐渐扩大，目前，纳锋微电子ALD系统成功交付到湖南大学、南开大学、同济大学等高校，并与中山大学、中南大学、南京工业大学等知名高校达成合作。截至2020年，纳锋微电子完成销售总额400万，今年预计销售额达600万。
李湘林透露，目前企业还在研发量产型的ALD镀膜设备，其最大镀膜尺寸为12寸。李湘林自己也计划着手验证ALD技术在储能领域的应用，如提高电池寿命及安全性等，同时，与合作机构一同开发ALD技术在新型超表面结构光学器件、微机电系统（ＭＥＭＳ）、光伏（ＰＶ）电池等领域的应用以及发表相关验证论文等工作。
“相比寻找投资人融资，我更希望接下来能与一些企业开展战略合作，在现有研发工艺基础上拓展更多实用型设备。纳锋微电子接下来也将开始加大力度寻找合适的职业经理人，希望未来企业团队能一起将这个国产品牌进一步做强做大。”李湘林说。
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